等離子體清洗改善ITO玻璃化學(xué)鍍銅層附著力

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-11-08

傳統(tǒng)的液晶顯示屏和電容式觸摸屏的生產(chǎn)過程中，為了使得屏與控制電路可靠的連接，需要將屏上引線部分的ITO玻璃表面覆蓋薄膜金屬，通過采用化學(xué)鍍銅的方法可以簡單、有效的實現(xiàn)ITO金屬化。常規(guī)的化學(xué)鍍銅工藝主要包括以下四個步驟：前處理→活化→解膠→化學(xué)鍍銅。由于前處理工序?qū)τ贗TO玻璃表面清潔程度處理不到位，影響到后面的活化工藝的均勻性，最終會使化學(xué)鍍銅層出現(xiàn)易剝落，不均勻、清潔度差等問題。等離子體清洗可以使ITO玻璃表面改性、去除ITO表面的殘余離子，使后續(xù)的活化、鍍銅工藝順利進行。

未經(jīng)等離子體表面清洗的基板潔凈度較差,而經(jīng)等離子體清洗過的基板潔凈度有所改善,并且隨著處理功率和時間的增加,鍍層潔凈度變高。等離子體表面處理可以改善鍍層潔凈度的原因是,等離子體中的荷能粒電子頻繁碰撞玻璃基片表面,使玻璃基片表面吸附的異物產(chǎn)生脫附或分解,最后被真空泵抽走,達到清洗目的同時,等離子體清洗形成的微觀粗化表面是原子或分子級的,從宏觀上看,基片表面去除水汽、污物后,更加平整和均勻。這些都能夠提高化學(xué)鍍銅層的清潔度。

經(jīng)過等離子體表面處理后，ITO玻璃其水接觸角減小，表面能提高，潤濕性得到改善。由于化學(xué)鍍銅所用的溶液均為水溶液，因此經(jīng)等離子體清洗后的ITO表面與溶液的潤濕性更好。

等離子體清洗改善ITO玻璃化學(xué)鍍銅層附著力的原因

當(dāng)ITO玻璃基片處在等離子體中時,由于表面受到等離子體中的荷能粒電子的轟擊,首先基片表面吸附的環(huán)境氣體、水汽、污物等被轟掉,使表面清潔活化,表面能提高,當(dāng)沉積時薄膜原子或分子更好地浸潤基片,增大范德華力。其次玻璃基片表面經(jīng)過荷能粒電子的撞擊,從微觀上看,基片表面會形成許多凹坑、孔隙,在沉積過程中薄膜原子或分子進人這些凹坑、孔隙,便產(chǎn)生了機械鎖合力。此外基片表面的粗化,使實際的表面積增大,這對增大范德華力、擴散附著力和靜電力都是有利的,因此增大了總的附著力。

在化學(xué)鍍銅工藝中增加等離子體清洗工序,能夠減小ITO玻璃表面的水接觸角、提高鍍銅層的清潔度和附著力。同時,通過優(yōu)化等離子體的處理條件,可使化學(xué)鍍銅層的性能得到進一步改善。