等離子表面清洗設備有哪些形式？

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-12-16

等離子表面清洗是指氣體在一定條件下如射頻、微波、直流輝光放電等,電離氣體形成活性等離子態(tài),利用等離子中的活性粒子與物體表面污物進行反應,或者利用等離子中的高能粒子轟擊物體表面污物形成可揮發(fā)性的污物隨真空泵抽出,達到清洗的目的。它是一種高效環(huán)保的清洗方法,特別是對以下1um超聲波所不能清洗的污物顆粒,用等離子清洗具有非常好的效果。

等離子表面清洗設備分類

等離子表面清洗設備有哪些形式呢？，等離子表面清洗設備按照按等離子體產生方環(huán)境的不同大體上分為兩大類，低壓等離子表面清洗設備，大氣壓等離子表面清洗設備。

大氣壓等離子表面清洗設備

大氣壓低溫等離子表面清洗設備是指通過改變發(fā)生器幾何結構和電源激勵頻率等手段在大氣壓條件下產生的大面積、較高能量密度的非熱平衡等離子體的設備。與低氣壓密閉環(huán)境相比，在大氣壓開放環(huán)境下產生和維持等離子體沒有了真空系統(tǒng)的限制，一方面大大降低了設備的制造和維護成本，縮短了工藝流程時間，實現(xiàn)連續(xù)、高效、規(guī)模地制備活性粒子，另一方面這使得處理材料的尺寸要求大大降低，從而大大擴展了低溫等離子體的應用領域。

大氣壓等離子表面清洗設備

近年來發(fā)展起來的大氣壓低溫等離子體材料表面改性技術由于省去了昂貴的真空系統(tǒng)、降低了生產成本、有利于連續(xù)、大規(guī)模的工業(yè)化生產，因而成為表面改性與等離子體科學領域交叉研究的熱點之一。研究表明，大氣壓低溫等離子體中含量豐富種類眾多的活性粒子是等離子體發(fā)揮材料改性作用的主要因素。在活性粒子的撞擊下，分子間穩(wěn)定的化學鍵被打開，產生小分子碎片同時形成大分子自由基，反應活性大大增強，同時，材料表面變粗糙有效表面積增大。產生的大分子自由基不僅可以相互反應聚合形成一層致密的網狀交聯(lián)層，也可以與大氣壓低溫等離子體中的活性粒子結合從而引入親水性極性基團（如羥基、酮基、醛基等），導致材料表面親水性增強不僅如此，大氣壓低溫等離子體還可以增強材料憎水性，比如等離子體處理涂抹二氧化硅油的玻璃表面后，可在玻璃表面生成一層致密的憎水膜。

低壓等離子表面清洗設備

低壓等離子表面清洗設備主要由四個部分組成，包括：氣體供給系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、放電腔室和等離子體電源。將待處理物放置在放電環(huán)境放電腔室中，抽真空后低氣壓下產生的等離子體是一種低溫等離子體，氣體溫度大約在幾十到二三百攝氏度，遠低于電子溫度，但又具有少量足夠高能的粒子，有足夠的能量處理固體表面，在一定使用范圍內也不會損傷基體。

低壓等離子表面清洗設備

低壓等離子表面清洗設備出現(xiàn)較早,常用于硅片及混裝電路的清洗以提高鍵接引線和釬焊可靠性,包括去除半導體表面的有機污染以保證良好的焊點連接、引線鍵合以及去除、混裝電路中來自鍵接表面由上一工序留下的有機污染,如殘余焊劑、多余的樹脂等。

以上就是關于等離子表面清洗設備有哪些形式的簡單介紹，低溫等離子表面清洗設備在材料表面上的應用屬于干式工藝，改性過程中只需要被處理材料與等離子體充分接觸，通過改變等離子體發(fā)生參數就得到理想的材料表面性能，具有工藝簡單、節(jié)約能源、綠色環(huán)保等優(yōu)點。近年來,常壓等離子表面清洗設備得到迅速的發(fā)展,相對于低壓等離子表面清洗設備,它無需使用真空泵,使得清洗過程所需的時間更短,價格更為低廉,效率更高。