Plasma等離子清洗機工作（清洗）原理

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-05-18

等離子體是由帶正、負電荷的離子和電子,也可能還有一些中性的原子和分子所組成的集合體。plasma等離子清洗機一般由控制部分、真空腔室部分、等離子電源及耦合部分、氣體部分組成。

plasma等離子清洗機結(jié)構(gòu)原理圖

Plasma等離子清洗機工作原理

Plasma等離子清洗機基本工作原理是在真空的狀態(tài)下，設(shè)備腔體內(nèi)的電極形成很高頻率的交變電場，腔體內(nèi)的氧氣或氬氣在交變電場的作用下形成等離子體，腔體內(nèi)被清洗的物體在活性等離子的化學反應(yīng)和反復(fù)物理轟擊的雙重作用下，使其表面揮發(fā)物殘留、雜質(zhì)、灰塵、氧化物等變成離子或氣態(tài)物質(zhì)，這些離子或氣體在真空的抽離下排出腔體，剝離出被清洗的物體表面，從而達到清洗的目的。采用這種方法能夠提升材料的粘附性與濕潤性，去除不同類型的污染物和雜質(zhì)，從而為之后的工序奠定良好的基礎(chǔ)。

氧氣清洗是利用氧氣與有機物產(chǎn)生化學反應(yīng)，變成二氧化氮和水蒸氣,再通過抽風將氣體抽出的方式達到清洗的目的，清洗速度快效果好，但是不適合易于氧化的物體，只適合不易氧化的物體清洗。反應(yīng)方程式如公式（1）所示。
O2+e------>2O＋e CO2+H2O＋e（1）
氬氣清洗是利用比較重氬離子以高度運動的物理方法打破污染有機物脆弱的化學鍵,進而使表面污染有機物變成氣體脫離載體。反應(yīng)方程式如公式（2）所示。Plasma清洗微觀原理圖如圖1所示。
Ar+e------>Ar++2e------>Ar++CxHy(2)

Plasma 清洗微觀原理圖

與傳統(tǒng)的清洗相比，plasma等離子清洗的成本低、清洗效果好、安全環(huán)保且不會造成二次污染，同時等離子清洗不僅可以去除固體表面的污染物，還可以提高固體表面的潤濕性能。plasma等離子清洗機工作原理可做如下解釋：通過抽真空，對真空腔體內(nèi)的氣體施加足夠的能量使之離化為等離子體，一方面生成的等離子體可對樣品表面的污染物進行分解并將其帶走，實現(xiàn)清洗目的；另一方面等離子體中的“活性組分”會代替固體表面的聚合物官能團，增加固體表面活性，從而提高潤濕性能。